概述
在半導(dǎo)體和微電子清洗工藝方面，業(yè)內(nèi)正在逐步淘汰使用刺激性化學(xué)品的方案，改用更環(huán)保的臭氧水處理方案。這種方案節(jié)省了昂貴的廢物處理，可在室溫條件下進(jìn)行操作，成本更低。
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臭氧化模組
幾十年來，戈?duì)柕某粞趸＝M為硅晶圓、邏輯芯片和存儲芯片的制造、平板顯示器(FPD)和光掩膜的表面處理和去除有機(jī)污物，提供了更安全、環(huán)保、經(jīng)濟(jì)的清洗工藝。
戈?duì)柕某粞趸＝M比目前市場上的方案更勝一籌，提供的臭氧溶解模組能生成更潔凈、無氣泡的臭氧水，而且保持穩(wěn)定一致的高濃度和流量。戈?duì)柕某粞趸＝M久經(jīng)驗(yàn)證，是改進(jìn)半導(dǎo)體和微電子及平板顯示器制程清洗工藝的可靠解決方案。
